16/02/2019

Erwin Olaf terá exposição dupla no Gemeentmuseum e no Museu de Fotografia de Haia

Erwin Olaf_Gemeentemuseum The Hague Installations Overview_2019-converted

Vista da exposição no Gemeentmuseum, 2019

 

Do dia 16 de fevereiro à 12 de maio, o artista Erwin Olaf  terá exposição dupla por parte dos museus Gemeentemuseu Den Hang e o Museu de Fotografia de Haia.  O Museu de Fotografia de Haia se concentrará no amor de Olaf por seu ofício e sua transição do fotojornalista analógico para o criador de imagens digitais e contador de histórias. Olaf reunirá cerca de vinte fotografias de fotógrafos famosos que foram sua  fonte vital de inspiração.
E o Gemeentemuseum Den Haag mostrará o trabalho não-comissionado de Olaf de 2000 a sua mais recente série, incluindo o trabalho que ele produziu em Xangai e sua mais recente série Palm Springs, em exibição pela primeira vez. Olaf mostrará sua fotografia na forma de instalações, em combinação com filme, som e escultura.

 

 

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